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美國開發(fā)出1nm制程技術(shù)與設(shè)備，但短期內(nèi)不易進(jìn)入量產(chǎn)階段

2017-05-17 09:25 來源：網(wǎng)絡(luò) 責(zé)編：???

摘要：: 晶圓代工大廠包括臺積電、英特爾、三星等公司在 2017 年陸續(xù)將制程進(jìn)入 10 奈米階段，而且準(zhǔn)備在 2018 年進(jìn)入 7 奈米制程試產(chǎn)，甚至 2020 年還將要推出 5 奈米制程技術(shù)。

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【CPP114】訊：晶圓代工大廠包括臺積電、英特爾、三星等公司在 2017 年陸續(xù)將制程進(jìn)入 10 奈米階段，而且準(zhǔn)備在 2018 年進(jìn)入 7 奈米制程試產(chǎn)，甚至 2020 年還將要推出 5 奈米制程技術(shù)。因此，隨著制程技術(shù)的提升，半導(dǎo)體制程也越來越逼近極限，制造難度也越來越大。就以 5 奈米之后的制程來說，到目前為止都沒有明確的結(jié)論。對此，美國布魯克海文國家實(shí)驗(yàn)室(Brookhaven National Laboratory，簡稱BNL)研究人員日前宣布，開發(fā)出可以達(dá)成 1 奈米制程的相關(guān)技術(shù)與設(shè)備。

根據(jù)外電報(bào)導(dǎo)，美國能源部旗下的布魯克海文國家實(shí)驗(yàn)室研究人員，日前宣布成功采用電子束印刷技術(shù)，成功制造了尺寸只有 1 奈米的印刷設(shè)備。據(jù)了解，這個(gè)實(shí)驗(yàn)室的研究人員采用電子顯微鏡，制造出比普通電子束印刷(EBL)技術(shù)能做出的更小尺寸。這使電子敏感性材料在聚焦電子束的作用下，尺寸得以大大縮小，達(dá)到可操縱單個(gè)原子的程度。而這項(xiàng)技術(shù)與設(shè)備的誕生，則可極大的改變材料特性，從導(dǎo)電變成光傳輸，或這兩種狀態(tài)下交互執(zhí)行。

就目前發(fā)表的內(nèi)容觀察，1 奈米印刷使用的是掃描投射電子顯微鏡(STEM)，隔開 11 奈米，這樣一來每平方公厘就能實(shí)現(xiàn) 1 兆個(gè)特征點(diǎn)(features)的密度。再透過偏差修正 STEM 在 5 奈米半柵極在氫氧硅酸鹽類抗蝕劑下，實(shí)現(xiàn) 2 奈米的分辨率。

雖然，這也不是科學(xué)家第一次達(dá)到 1 奈米級別的技術(shù)，2016 年美國能源部下屬的另一個(gè)國家實(shí)驗(yàn)室也宣布發(fā)展出 1 奈米制程技術(shù)。這部分使用的是奈米碳管和二硫化鉬等新材料。不過，不管是哪一邊開發(fā)出的新技術(shù)與設(shè)備，就目前觀察，這項(xiàng)技術(shù)都不會很快量產(chǎn)。因?yàn)槟蚊滋脊芫w管跟 PMMA、電子束光刻一樣，跟目前的半導(dǎo)體制程技術(shù)有明顯差異。因此，要讓廠商一下子全部淘汰現(xiàn)有設(shè)備，這還需要一段時(shí)間布局。

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